关于【焦磷酸铜的制备】，焦磷酸铜配方，今天向乾小编给您分享一下，如果对您有所帮助别忘了关注本站哦。

1、钕铁硼高磁性材料电镀工艺-镀镍

钕铁硼高磁性材料电镀根据产品使用环境的不同而采用了不同的电镀工艺，表面镀层也分为两大类，镀锌和镀镍。

钕铁硼高磁性材料镀镍实际上也是多层镀层，需要先预镀镍以后，再经镀铜加厚，然后表面镀光亮镍。

①预镀镍，硫酸镍:300g/L，pH值:4.O~4.5，氯化镍:50g/L，温度:50~60℃，硼酸:40g/L，电流密度:0.5~1.5A/dm2添加剂适量时间5min。

②焦磷酸盐镀铜加厚。作为中间镀层，尽管流行采用酸性光亮镀铜工艺，但是对于钕铁硼高磁性材料，进行加厚电镀不宜采用酸性镀铜，这是因为在强酸性镀液中，已经预镀了阴极镀层的多孔性材料会很容易发生基体微观腐蚀;为以后延时起泡留下隐患。比较合适的工艺是接近中性的焦磷酸盐镀铜。

焦磷酸铜:70g/L，光亮剂:适量，焦磷酸钾:300g/L，pH值:8~8.5，柠檬酸铵:30g/L，温度:40~50℃，氨水:3mL/L，电流密度:l~1.5A/dm2。

③光亮镀镍硫酸镍:300g/L，氯化镍:40g/L，pH值:3.8~5.2，硼酸:40g/L，温度:50℃，低泡润湿剂:lmL/L，阴极电流密度:2~4A/dm2。

2、焦磷酸铜的制备

焦磷酸铜是镀铜的重要原料。其早期的制备方法是通过硫酸铜和焦磷酸钠复分解得到，但会存在一个问题。硫酸根容易腐蚀金属，影响镀铜品质。所以很多的镀铜厂家对焦磷酸铜里的重金属和硫酸根含量要求非常高；一些工厂会采用铜单质为原料，用氯化铜和焦磷酸钠复分解制得，可解决这一难题。但重金属如：铁、铅的控制任然需要工艺的严格把控和创新。所以不同的厂家制备的原理会差不多，但是生产工艺却大相径庭。

3、如何区分氰化铜、焦磷酸铜、硫酸铜!急

根据焦磷酸铜溶于酸,不溶于水.氰化铜溶于酸,不溶于水,硫酸铜溶于水.可以先加入水,溶解的是硫酸铜层,加入盐酸,生成气体的是氰化铜层,但要小心操作,生成剧毒气体氰化氢,在抽风槽中操作,带防毒面具.剩下的是焦磷酸铜,焦磷酸铜溶解,没气泡.
为了安全,可以用30%烧碱溶液,烧碱溶液可以使氰化铜溶解,没有剧毒气体氰化氢气泡,剩下的是焦磷酸铜,焦磷酸铜不溶于烧碱溶液.

4、焦磷酸铜光亮剂的应用过程中，为什么说搅拌对镀层质量的影响很重要？

搅拌可以使阴极附近溶液不断更新，使放电的金属离子不至于出现贫乏的情况，并且呢，使离子扩散速度增加，而相应地提高电流密度。
如果不搅拌，采用大的阴极电流密度时，阳极溶解加快，造成 Cu2+过剩，使得阳极附近的 Cu2+来不及和P2O74-充分配合，而生成白色的焦磷酸铜沉淀。阳极钝化对阴极也有影响，零件表面会有白色粉末生成，造成镀层粗糙。因此，我们在应用比~格~莱~的焦磷酸铜光亮剂时，很注重搅拌这个工艺条件，采用搅拌后，金属离子含量、pH值、溶液P比值和温度改变对电流效率的影响很小。采用压缩空气搅拌最为方便，效果也是好的。

本文关键词：焦磷酸铜的作用，焦磷酸铜p比怎么控制，焦磷酸铜配方，焦磷酸铜的分析方法，焦磷酸铜沉淀。这就是关于《焦磷酸铜的制备，焦磷酸铜配方（钕铁硼高磁性材料电镀工艺-镀镍）》的所有内容，希望对您能有所帮助！更多的知识请继续关注《犇涌向乾》百科知识网站：http://www.029ztxx.com！